
扫描电镜测长物质常见的有两种,一种线宽标准物质,一种粒度标准物质。线宽标准物质以单晶硅为基底,表面刻制金属膜(钨或者钛)。周期性的线宽标准物质主要用于校准扫描电镜放大倍率和进行长度的比对。
l 安装在样品台上,快速核对空间尺寸
l 定期进行显微镜的刻度和性能检查
l ***时间获得高放大倍率和sub-micron-scale
l 精确获得从0.3um到30um的尺寸,*用一个刻度参照物
l 分析变形失真原因
基本参数:
301CE & 701CE 302CE & 702CE 301BE**
Substrate Silicon Wafer Silicon Wafer Silicon Wafer
Top Surface 60 nm Tungsten film 60 nm Tungsten film Ti pattern on Si
Physical Size 3mm x 4mm x 0.5mm 3mm x 4mm x 0.5mm 3mm x 4mm x 0.5mm
Accuracy ± 3% ± 3% ± 1%
Nominal Dimensions (x) (x, y) (x)
300 nm for 301CE 300 nm for 302CE 300 nm for 301BE
700 nm for 701CE 700 nm for 702CE
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80110-31 MODEL 301CE SUBMICRON STANDARD UNMOUNTED 个
80110-31M MODEL 301CE SUBMICRON STANDARD - MOUNTED 个
80110-31-PIN MODEL 301CE WITH PIN 个
80110-32 MODEL 302CE SUBMICRON STANDARD-UNMOUNTED 个
80110-32M MODEL 302CE SUBMICRON STANDARD - MOUNTED 个
80110-32-PIN MODEL 302CE WITH PIN 个
80110-71 MODEL 701CE SUBMICRON STANDARD, UNMOUNTED 个
80110-71M MODEL 701 CE SUBMICRON STANDARD-MOUNTED 个
80110-71-PIN MODEL 701CE WITH PIN 个
80110-72 MODEL 702CE SUBMICRON STANDARD,UNMOUNTED 个
80110-72M MODEL 702CE SUBMICRON STANDARD-MOUNTED 个
80110-72-PIN MODEL 702CE WITH PIN 个
80111-31 MODEL 301BE SUBMICRON STANDARD-UNMOUNTED 个
80111-31M MODEL 301BE SUBMICRON STANDARD - MOUNTED 个
80111-31-PIN MODEL 301BE WITH PIN 个
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